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Teilereinigung von Lithografieanlagen

Teilereinigung von Lithografieanlagen

Vorteile

  •     Schneller Durchlauf
  •     Automatisierte Reinigungsmaschinen, die wiederholbare Reinigungsergebnisse zu wettbewerbsfähigen Preisen gewährleisten
  •     Reduzierter Abfall und Flüssigkeitsverbrauch (Lösungsmittel, Tenside, Wasser)
  •     Keine Investition in Maschinen beim Kunden vor Ort
  •     Saubere und sichere Träger und Trays dank integrierter Kontrollen und Reparaturen
  •     Integrierte Logistik und Lagerung zur Reduzierung der Lagerbestände beim Kunden

Eigenschaften

  •     Leitfähigkeit von DI-Wasser
  •     Mechanische Partikel überwacht durch LPC
  •     Vakuum-Ausgasung 24 h
  •     Restgasanalyse (RGA) mit analytischen Mitteln (ICP-MS)